芯科技消息，韓國研究團(tuán)隊開發(fā)出新的「斷電式減少燃?xì)?、灰塵裝置」技術(shù)，若在半導(dǎo)體制程中采用，可針對制程前、后所產(chǎn)生的污染物質(zhì)進(jìn)行處理，有效的減少廢棄物質(zhì)與溫室氣體，同時預(yù)計能使半導(dǎo)體設(shè)備規(guī)模減少30%。

根據(jù)韓國財經(jīng)媒體《首爾經(jīng)濟(jì)》報導(dǎo)，韓國機(jī)械研究院的院長樸天洪表示，環(huán)境系統(tǒng)研究本部中的金勇鎮(zhèn)博士研究組，開發(fā)出了可以用于處理半導(dǎo)體工程的燃?xì)?、灰塵裝置。

隨著大面積的顯示屏產(chǎn)量增加、制造半導(dǎo)體所需的晶圓直徑開始大型化，半導(dǎo)體工程中的快速洗凈工程等也隨之增加，這樣的影響會造成半導(dǎo)體制程廢氣量持續(xù)增加。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程中，經(jīng)過腐蝕、化學(xué)蒸鍍或離子注入等步驟，會產(chǎn)生多樣的有害物質(zhì)，諸如SF6（六氟化硫）、CF4（四氟化碳）、NF3（三氟化氮）、HF（氟化氫）、氮氧化物以及懸浮微粒等，解決廢氣的必要性也開始提高。

一般來說，在制造設(shè)備或處理沉淀物等方面，通常會選擇催化劑還原（SCR）和濕式清除設(shè)備等方法來清除。

而研究組新開發(fā)的裝置則結(jié)合斷電酸化、濕式還原、濕式電氣集塵三種方式，不論是利用高溫清除、低溫處理廢棄氣體，還是不同的低溫狀態(tài)中，全部都可以在同一設(shè)備中處理。這項設(shè)備把排出的廢氣制成易溶性狀態(tài)，再噴灑復(fù)合還原劑，最后排出的懸浮微粒氣體將通過自動清洗型電氣集塵裝置清除，提高了凈化效率。

金勇鎮(zhèn)表示，如果現(xiàn)有污染物質(zhì)去除裝備的設(shè)置面積和處理量成比例的話，新開發(fā)的裝置可通過氣流量和濃度，以及與外部的靜電注入量來對比做調(diào)節(jié)。