半導體行業(yè)廣泛使用的是哪種清洗技術？半導體行業(yè)廣泛使用的是超聲波清洗技術，無錫奧曼特專業(yè)生產(chǎn)超聲波清洗機。

超聲波清洗是半導體工業(yè)中上泛應用的一種清洗方法，其優(yōu)點是:清洗效果好，操作簡單,對于復雜的器件和容器也能清除，這種清洗方法是在強烈的超聲波作用下(常用的超聲波頻率為20-40kHz),液體介質(zhì)內(nèi)部會產(chǎn)生疏部和密部,疏部產(chǎn)生近乎真空的空腔泡,當空腔泡消失的瞬間,其附近便產(chǎn)生強大的局部壓力,使分子內(nèi)的化學鍵斷裂將晶園表面的雜質(zhì)解吸， 超聲波清洗的效果與超聲條件(如溫度、壓力、超聲頻率、功率等)有關,多用于清除圓片表面附著的大塊污染和顆粒。

超聲波的功率密度越高，空化效果越強，速度越快，清洗效果越好。但對于精密的、表面光潔度甚高的物體，采用長時間的高功率密度清洗會對物體表面產(chǎn)生“空化”腐蝕。

超聲波頻率越低，在液體中產(chǎn)生空化越容易，作用也越強。頻率高則超聲波方向性強，適合于精細的物體清洗。

一般來說，超聲波在30℃~40℃時空化效果最好。清洗劑則溫度越高，作用越顯著。

通常實際應用超聲波清洗時，采用40℃~50℃的工作溫度。

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