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如何打破半導體設備國產(chǎn)化率低的困境 套路也是進步

作者: 編輯: 來源: 發(fā)布日期: 2018.09.28
信息摘要:
在極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝專項(簡稱“集成電路專項”)以及其他國家相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策的推動下,近年來我國半導體設備 產(chǎn)業(yè)取得較快進步,部…

在極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝專項(簡稱集成電路專項”)以及其他國家相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策的推動下,近年來我國半導體設備產(chǎn)業(yè)取得較快進步,部分關(guān)鍵設備從無到有,實現(xiàn)了與國際先進技術(shù)水平的同步發(fā)展。同時,部分國產(chǎn)設備進入大生產(chǎn)線,在產(chǎn)業(yè)化進程上取得突破。在此情況下,如何讓產(chǎn)品在推向市場的過程中獲得合理的利潤,以利持續(xù)發(fā)展,成為 國產(chǎn)設備廠商關(guān)注的重點。

中國半導體行業(yè)要想實現(xiàn)從跟隨到引領(lǐng)的跨越,設備產(chǎn)業(yè)的成長是重要環(huán)節(jié)之一。但是半導體設備行業(yè)卻存在技術(shù)難度大,進入門檻高的特點。目前為止,我國半導體設備領(lǐng)域仍然存在著國產(chǎn)化率較低的問題。

對此,半導體專家莫大康指出,上世紀80年代末期開始,半導體設備企業(yè)開始把工藝能力整合在設備中,讓用戶買到設備就能保證使用,并且達到工藝要求。因此有一代器件,一代設備之說。這是半導體設備如此昂貴的原因,也是國內(nèi)企業(yè)面對的極大挑戰(zhàn)。

此外,一臺設備從研發(fā)、樣機開始,必須經(jīng)過大量硅片通過等工藝試驗,才能發(fā)現(xiàn)問題,并進行改型。這樣的過程要重復多次,改型多次后才能最后定型。另外,出廠前還要經(jīng)過馬拉松試驗,測算平均無故障時間等。

這對實力尚弱的國產(chǎn)設備廠商來說,也是一個巨大的挑戰(zhàn)。

SEMI中國區(qū)總裁居龍也表示:目前中國設備正在取得從01的突破,但是要認識到這一進程的長期性。

《中國制造2025》對于半導體設備國產(chǎn)化提出了明確要求:在2020年之前,9032納米工藝設備國產(chǎn)化率達到50%,實現(xiàn)90納米光刻機國產(chǎn)化,封測關(guān)鍵設備國產(chǎn)化率達到50%。在2025年之前,2014納米工藝設備國產(chǎn)化率達到30%,實現(xiàn)浸沒式光刻機國產(chǎn)化。

盡管存在挑戰(zhàn),經(jīng)過多年來的不斷培育,特別是在國家“02專項等政策的扶持下,國產(chǎn)半導體設備產(chǎn)業(yè)還是取得了一定進步。日前,科技部會同北京市和上海市人民政府組織召開了國家科技重大專項極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝成果發(fā)布會。在過去的九年里,集成電路專項對中國半導體設備產(chǎn)業(yè)整體布局,既有全面填空,又有重點突破。

根據(jù)成果發(fā)布,北方華創(chuàng)通過近九年的科技攻關(guān),完成了刻蝕機、磁控濺射、氧化爐、低壓化學氣相沉積、清洗機、原子層沉積等集成電路設備90/55/40/28納米工藝驗證,實現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化。公司的刻蝕機等三大類集成電路設備進入14納米工藝驗證階段,首次實現(xiàn)與國外設備同步驗證。在集成電路專項的支持下,12英寸集成電路設備實現(xiàn)從無到有,并實現(xiàn)批量銷售,成為公司的主要收入來源之一。中微半導體先后承擔并圓滿完成6545納米、3222納米、2214納米等三項等離子介質(zhì)刻蝕設備產(chǎn)品研制和產(chǎn)業(yè)化的集成電路專項任務,使我國在該項設備領(lǐng)域中的技術(shù)基本保持了與國際先進水平同步。中微半導體已經(jīng)有460多個介質(zhì)刻蝕反應臺在海內(nèi)外27條生產(chǎn)線上高質(zhì)穩(wěn)定地生產(chǎn)了4000多萬片晶圓。

根據(jù)中科院微電子所所長葉甜春的介紹,在關(guān)鍵裝備和材料方面,我國實現(xiàn)了從無到有的跨越,大部分產(chǎn)品水平達到28納米,部分產(chǎn)品進入14納米,被國外生產(chǎn)線采用;國產(chǎn)設備驗證和應用整體累積流片突破150萬片,銷售數(shù)量超過265臺。從工藝分布上看,國產(chǎn)設備橫跨了12英寸集成電路生產(chǎn)線9014納米各個技術(shù)節(jié)點的關(guān)鍵性工藝大類,并基本與國內(nèi)14nm先進工藝研發(fā)同步進行驗證。

在產(chǎn)業(yè)化進程取得一定突破的情況下,如何讓發(fā)展來之不易的國產(chǎn)半導體設備業(yè)得到持續(xù)發(fā)展,逐漸成為國產(chǎn)設備業(yè)關(guān)注的重點。

其中,最核心的一個問題就是產(chǎn)品的價格問題。目前,國內(nèi)半導體設備廠商存在低價競爭的狀況,一些用戶企業(yè)在面對國產(chǎn)設備廠商時,也會盡量壓低價格,國產(chǎn)設備仿佛給人留下的印象就是低價。

對此,盛美半導體董事長兼CEO王暉指出,半導體設備制造是一個門檻很高的行業(yè),不僅技術(shù)高度密集,廠商需要掌握嚴密的IP,而且產(chǎn)品售出之后還有大量后續(xù)服務需要做好。

如果售價被壓得過低,勢必會大幅壓低設備企業(yè)的利潤空間。短期內(nèi)用戶企業(yè)雖然可能獲利,但是勢必會影響到后續(xù)服務的進行。而且,設備行業(yè)的競爭十分激烈,企業(yè)必須保證對每一代技術(shù)的持續(xù)跟進,才能保持技術(shù)的領(lǐng)先性。這就需要企業(yè)持續(xù)進行投入。然而,如果獲利過低,將導致企業(yè)無力跟進技術(shù)的進步。

王暉認為,對于國產(chǎn)設備業(yè)者來說,最佳的解決之道就是做產(chǎn)品的差異化技術(shù)開發(fā),而不是僅憑低價格來爭取訂單。

面對同一個應用,同一個技術(shù)挑戰(zhàn),你要比大公司做得好,就要尋求差異化的解決方法,否則很難超過大公司。他說。

在王暉看來,從技術(shù)創(chuàng)新的角度,小公司未必會輸給大公司。反而因為小公司具備靈活性及高效率,更容易做出突破性的技術(shù)。以點帶面,從點上取得突破,方是國產(chǎn)設備企業(yè)長期持續(xù)的成長之道。

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