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奧曼特半導(dǎo)體清洗設(shè)備如何給臺面布局

作者: 編輯: 來源: 發(fā)布日期: 2018.01.25
信息摘要:
半導(dǎo)體清洗設(shè)備如何給臺面布局。奧曼特專家為您講解一下:腐蝕性較強槽體設(shè)置在靠近抽風(fēng)口處,水槽、吹干槽靠近操作者一側(cè)。

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常規(guī)條件下槽與槽之間的距離(前后 槽最大邊沿之間為80mm—100mm,左右 槽最大邊沿之間為100mm—120mm,根據(jù)所配置元器件的安裝空間、客戶現(xiàn)場尺寸規(guī)定,可以調(diào)整以上距離);

水槍配在靠近酸槽一側(cè),氮氣槍配在靠近水槽、干燥槽一側(cè)。一般情況下設(shè)備的氣槍彈簧管為PU材質(zhì),不耐酸氣,目前大都把水汽槍放在設(shè)備的側(cè)面或前面(放前面的話不要影響操作機臺)。

奧曼特半導(dǎo)體清洗設(shè)備如何給臺面布局

槽體上配的加熱器、超聲、浮子、探頭、管道等均要設(shè)置在槽的后側(cè)(即遠離操作者這一側(cè)),取放工件時不易將液體滴落上去,也避免工件刮蹭到,縮短工件放置的位置與機臺前部的距離,便于操作者工作。

如臺面需分成多個區(qū)域,之間隔斷根據(jù)客戶需求可以做成固定式、多片移到重疊式,臺面板設(shè)計合理、美觀、便于取放、保證平整度。

無錫市奧曼特科技有限公司擁有一支由碩士、高級工程師等組成的研發(fā)團隊,率先建立國內(nèi)硅片切割加工設(shè)備生產(chǎn)實驗線,2007年自主研發(fā)制造的“硅片旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機”被評為國家高新技術(shù)產(chǎn)品,榮獲多項硅片加工設(shè)備專利,憑借雄厚的設(shè)計與開發(fā)能力,成為在國內(nèi)外該行業(yè)領(lǐng)域的領(lǐng)軍品牌。咨詢熱線:051081000181

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