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28nm制程成長表現(xiàn)平淡,晶圓代工廠商如何扭轉(zhuǎn)態(tài)勢?

作者: 編輯: 來源: 發(fā)布日期: 2019.11.15
信息摘要:
2019年晶圓代工產(chǎn)業(yè)的焦點無疑是先進制程發(fā)展,尤其在7nm產(chǎn)品的采用率上優(yōu)于市場預(yù)期,16/14nm需求受惠于高效能運算與消費性電子產(chǎn)品需…

2019晶圓代工產(chǎn)業(yè)的焦點無疑是先進制程發(fā)展,尤其在7nm產(chǎn)品的采用率上優(yōu)于市場預(yù)期,16/14nm需求受惠于高效能運算與消費性電子產(chǎn)品需求產(chǎn)能利用率表現(xiàn)不俗,也讓提供先進制程服務(wù)的相關(guān)廠商,在2019下半年確實能得到營收表現(xiàn)成長的機會。

然而在成熟制程方面,28nm情況則相對弱勢,加上Legacy Node40、55、65nm等納米節(jié)點產(chǎn)品對轉(zhuǎn)進28nm節(jié)點態(tài)度保守,也使得臺系晶圓代工廠商在維持28nm成長表現(xiàn)的課題上面臨挑戰(zhàn)。

28nm產(chǎn)能利用率短期提升程度有限,廠商保守看待恢復(fù)期需1~2

28nm制程過去為半導(dǎo)體制程技術(shù)突破的第一個分水嶺,在產(chǎn)品在線取得相當(dāng)大的成功,也讓主要晶圓代工廠商規(guī)劃不少產(chǎn)能。不過在16/14nm制程FinFET晶體管結(jié)構(gòu)出現(xiàn)后,大幅提升芯片性能,加上由于終端應(yīng)用如智能型手機、云端服務(wù)器等高端運算效能需求,使手機AP、GPU、CPU、ASIC等芯片陸續(xù)往先進制程發(fā)展,讓28nm制程失去不少原有的產(chǎn)品固守力道。

目前28nm節(jié)點在市場上處于供過于求狀態(tài),而從臺積電與聯(lián)電的納米節(jié)點營收來看,近年在28nm部分面臨占比下滑態(tài)勢,尤其面臨2019年半導(dǎo)體市場需求衰退下,伴隨而來的是產(chǎn)能利用率遲遲難以提升,而主要晶圓代工廠商的產(chǎn)能利用率約67成,相較先進制程或更成熟的納米節(jié)點有不小差距。 市場上提供28nm制程服務(wù)的主要廠商有臺積電、聯(lián)電、Samsung、GlobalFoundries、中芯國際等,另有華虹半導(dǎo)體小規(guī)模開發(fā)中。從產(chǎn)能分布來看,臺積電、聯(lián)電及Samsung28nm方面約占總產(chǎn)能2025%;GlobalFoundries、中芯國際與華虹半導(dǎo)體則占比不到2成,然由于陸系晶圓代工廠商積極追趕一線廠商,為提升芯片自給率的實力,28nm制程處于擴張階段,未來占比有可能持續(xù)提升。

由此看來,陸系晶圓代工廠積極提升芯片國產(chǎn)化,將令28nm節(jié)點在既有市場的中低階芯片需求供應(yīng)分布產(chǎn)生變化,分散原本的代工集中度;在尚未出現(xiàn)明顯新興需求的提升下,28nm節(jié)點的市場復(fù)甦時間恐將拉長,從日前臺積電執(zhí)行長魏哲家認為28nm產(chǎn)能利用率或?qū)⑿枰?span>2年時間恢復(fù)來看,可見一斑。 值得一提的是,分析主要IC設(shè)計廠商在28nm制程的投片狀況,通訊聯(lián)網(wǎng)類與射頻相關(guān)產(chǎn)品約占近一半份額,搭上后續(xù)5G發(fā)展帶動的趨勢,估計能保持一定需求水平;然而在車用、IoT或其他終端應(yīng)用裝置上則需要新的機會點挹注,以更優(yōu)化的技術(shù)吸引客戶產(chǎn)品制程轉(zhuǎn)移,考驗晶圓代工廠商在研發(fā)策略與營運上的布局,后勢發(fā)展需持續(xù)關(guān)注。

IoT、OLED相關(guān)需求后勢看漲,或?qū)⒅?span>28nm制程技術(shù)轉(zhuǎn)移

從現(xiàn)有市場需求分析,為提升28nm制程需求的動力,目標仍著重于提供技術(shù)上的優(yōu)化與成本效益來吸引芯片設(shè)計廠商做制程轉(zhuǎn)移,而目前可能做制程轉(zhuǎn)移的應(yīng)用領(lǐng)域有兩方面,分別是IoT/穿戴裝置與面板驅(qū)動IC

首先在IoT方面,過去的IoT芯片功能大多以數(shù)據(jù)收集為主,功能單純且需維持長時間使用并兼顧低價高量,因此多半集中在28nm以上的節(jié)點制造。

然而近年IoT與各項領(lǐng)域結(jié)合程度越來越高,5GAI的推動讓IoT有了進一步的技術(shù)需求,也讓客戶評估制程技術(shù)轉(zhuǎn)移的可能性。臺積電推出22nm節(jié)點N22-ULL(Ultra Low Leakage)設(shè)計,相較40ULP55ULP能提供更好的功耗表現(xiàn)與更低漏電率,主要目標就是在IoT與穿戴裝置的使用上,加大客戶從40/55nm制程往28nm以下制程邁進的吸引力與信心,且由于22nm28nm共享產(chǎn)線,將提升整體28nm的產(chǎn)能利用率,雖然目前量不多,但可望持續(xù)補充臺積電N28nm節(jié)點戰(zhàn)力。

另一方面,受惠OLED面板在更多的終端應(yīng)用產(chǎn)品上滲透率持續(xù)上升,以及陸系OLED廠商產(chǎn)能陸續(xù)開出,OLED DDIC(面板驅(qū)動IC)市場也將成為新一波28nm的成長動能;過去OLED DDIC40nm制程為主,但為了滿足日后需求量上升,在既有40nm產(chǎn)能已滿載而28nm產(chǎn)能出現(xiàn)空缺的情況下,晶圓代工廠商也積極與客戶合作制程轉(zhuǎn)移,期望能達到填補28nm缺口并囊括更多訂單。

目前掌握到的情況是,韓系廠商的OLED DDIC已確定開發(fā)出28nm產(chǎn)品,并積極布局代工產(chǎn)線產(chǎn)能,甚至有海外委外代工消息傳出,臺系廠商受惠的機會不低,預(yù)計2020下半年有大量成長的可能性,因此從聯(lián)電在2019年第三季法說會提到,28nm需求的恢復(fù)期可能落在3個季度后來看,或有一定程度的關(guān)聯(lián)性。

整體而言,制程技術(shù)轉(zhuǎn)移對28nm節(jié)點來說有相當(dāng)程度的重要性,也是提升產(chǎn)能利用率的最有效方法,若技術(shù)轉(zhuǎn)移進度良好,在2020年市場預(yù)計半導(dǎo)體需求回升的態(tài)勢下,或?qū)⒂?span>28nm需求提前拉抬的機會。

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